Moxtekはナノ構造の光学素子を20年以上にわたり製造してきました。Φ200mmのウェハ上に様々なナノ構造素子の複製を大量に提供できます。
Moxtekはお客様と共同で大量生産に向けたソリューションを設計、検証、開発します。迅速な設計の反復とナノインプリントリソグラフィー（NIL）のための最適化のオプションを提供しています。Moxtekはプリント後の限界寸法（CD）の再現性を監視するために統計的工程管理（SPC）を使用します。
Moxtekは試作品サンプルを繰り返し使用するDesign Master Shuttleに提供しています。このNIL Design Master Shuttleには、複数の（異なる）設計構造を収容できるスペースがあります。エンジニアが一回の試作でいくつかの設計を試すことができるので、開発時間またはコストを削減できます。最新のレンズやナノ構造光学デバイスを試作に向けて、お客様独自の設計を次のDesign Master Shuttleに追加することができます。こうした設計の反復は年に複数回行われます。
Moxtekはナノ構造光学部品を20年以上生産してきました。Φ200mmのウェハ上にナノ構造デバイスを並べた大量のウェハの複製を提供しています。機能性メタサーフェスの製造にはMoxtekの多岐にわたる技術力は、メタレンズ、メタ光学素子（MOE）、回折光学素子（DOE）、パターン化ナノ構造、導波路、フォトニック結晶、バイオセンサーアレイなどの機能性メタサーフェスの製造に活用されています。こうしたデバイスは、自動車、医療・歯科イメージング、カメラシステムなど、様々なアプリケーション向けのイメージング、照明、ディスプレイシステムに使用されます。
800nm 高屈折率酸化物ピラー
回折光学素子
NILで作製した4状態ピクセル偏光子のSEM画像
製造能力
- 大量生産
- 試作オプション
- ナノインプリントリソグラフィー（NIL）
- Design Master Shuttle
- マスタ開発、スタンプ作製
- 蒸着（PECVD、スパッタ、ALD）
- エッチング（金属、低屈折率から高屈折率の酸化物）
- AFMとSEM
- 光学測定と検査
指定できるパラメータ
- 最小CD：50nm
- マスタのウェハタイプ：石英（推奨）
- マスタのウェハサイズ：Φ300mm、Φ200mm（推奨）、Φ150mm（許容）
- 基板の材質：ガラス・溶融石英・石英・サファイア（Φ200mmの場合）
- 基板の厚み：0.675mmから1.8mm
