スペック(製品仕様)
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1250 l/mm @1030nm
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1700 l/mm @1030nm
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800 l/ mm @1030nm
オプティクス・ファイバー(グレーティング)
Wasatch Photonics
Wasatch Photonics社の体積位相ホログラフィック(VPH)グレーティングは、高出力超短パルスレーザーのパルス圧縮およびストレッチでご使用いただけます。 本製品は、迷光や散乱がほとんどなく、高い透過率を発揮します。表面レリーフグレーティングとは異なり、汚れが付着しても簡単に拭き取りができます。 ご用途に適性な標準ストック品からお選びいただけるだけでなく、カスタム品についても柔軟な対応を行っておりますので是非お問い合わせください。
・高い透過率
・低収差、低散乱
・パルスエネルギーの高いアプリケーションに最適
・強固な設計により、簡単な拭き取りとハンドリングが可能
ご用途に応じて柔軟でコンパクトなレイアウトによる透過型パルス圧縮キャビティを実現。設計者に対して本製品は、どのような場合でも高い効率でかつ低散乱、低収差を実現。最短できれいなパルスが得られます。
Wasatch Photonics社は米国 ユタ州およびノースカロライナ州に拠点を置く、体積位相ホログラフィックグレーティングの製造をコア・テクノロジーとした分光器・OCTの先進メーカーです。
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オプティクス・ファイバー(グレーティング)
Wasatch Photonics
すべての星がユニークであるように、すべての天体望遠鏡に対するニーズも多種多様です。Wasatch Photonics社では、お客様のプロジェクトの初期段階から、最適な設計技術を駆使して天体望遠鏡に特化した高スループットの中型から大型サイズの体積ホログラフィック(VPH)グレーティングを作成し、その分野での高い経験と実績を誇っています。 Wasatch Photonics社の強固なグレーティングは、ご用途に応じて広帯域に渡り入射角のチューニングが可能な高い柔軟性を有しており、長期間に渡って優れたパフォーマンスを得られます。 ・広帯域に渡る入射角チューニング ・波長(350〜2500nm)およびライン密度(150〜6000ライン/ mm)で大型サイズ >300nm のカスタム作成が可能 ・複数の特許取得済み設計技術 ・低偏光依存性、均一な透過率 ・強固な設計により、拭き取りとハンドリングが容易 Wasatch Photonics社は、長年蓄積してきた専門知識に基づきVPHグレーティングを最適化。幅広い帯域幅において低偏光依存性や高い透過性を実現しています。また、天文学用グレーティングに求められる要求に適合させるための複数の設計技術を開発し特許を取得しています。化学組成、距離、速度、密度、または天体の研究など、ご用途に応じて最適なグレーティングを作成することができます。
オプティクス・ファイバー(グレーティング)
Wasatch Photonics
高鮮明で断層計測が可能なスペクトルドメインOCT光干渉断層撮影(SD-OCT)の画像では、高いSN比で広帯域幅をカバーする光学設計が求められます。Wasatch Photonics社のHDグレーティングは、S&P偏光ともに高い透過率を得られます。 Wasatch Photonics社の豊富な製品からお選びいただけるとともに、理想的なグレーティングを設計するためのOCT専門知識をご提供いたします。 OEM向け製品は、最初のコンセプトから製品リリースまで豊富で多様なサポートをいたします。 ・特許取得済み広帯域に渡る高分散設計 ・高い透過率により、感度が向上し、スキャン速度が速くなります ・低偏光依存性 ・低散乱&ARコーティングにより迷光が最小限に抑えられます ・強固な設計により、拭き取りとハンドリングが容易 ・小型でハイスループットな光学設計が可能 透過型VPHグレーティングは、高い透過率で迷光の少ないコンパクトな光学設計を可能にします。VPHグレーティングをシステムの中心に置き、より鮮明なイメージを実現します。
オプティクス・ファイバー(グレーティング)
Wasatch Photonics
Wasatch Photonics社の透過型VPHグレーティングは、光学設計者に多くの利点をもたらします。一般に透過型は、刻線型よりも高効率で散乱が大幅に減少します。より安定した処理により、コンパクトで収差が少なくアライメントが容易な分光光度計が可能になります。Wasatch Photonics社では、帯域幅と低偏光依存、透過率を最適化するために、複数の特許技術を適用しています。Wasatch Photonics社の豊富な製品からお選びいただけるとともに、OEMのご相談にも幅広く対応いたします。 ・特許取得済みの広帯域グレーティング設計 ・高い透過率により高感度計測が可能 ・低偏光依存 ・低散乱低収差 ・強固な設計により、拭き取りとハンドリングが容易 ・2500 nmまでのNIRイメージングに理想的 350〜2500 nmの範囲で、次世代のハイパースペクトルイメージングシステムまたはイメージングスペクトログラフを可能にする広帯域&高分散ソリューションを提供します。
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